CRITT MDTS > Compétences > Plasmas froids et dépôts physiques en phase vapeur

Prestation
Le CRITT MDTS dispose d'une plate-forme industrielle polyvalente utilisant la technologie des plasmas froids dans le secteur des Traitements et Revêtements de Surface.
Applications
  •  Traitement d'emballages agroalimentaires
  •  Préparation de surface avant mise en peinture (polymères et métaux)
  •  Nettoyage et activation de surfaces avant collage, de tous les matériaux métalliques, céramiques et polymères
  •  Dépôts par pulvérisation
  •  Dépôts en phase gazeuse sur pièces massives (mode statique) et sur films (mode dynamique)
  •  Stérilisation
  •  Amélioration de la durée de vie des outillages de fabrication en limitant l'usure et de la précision des pièces produites pour les outils coupants, d'extrusion, d'étirage, de repoussage, de refoulement, d'emboutissage, de pliage, de découpage, outils de frappe, moules, outillages de verrerie...
     Résoudre des problèmes de frottement et de corrosion, de démoulage...
Matériels
Réacteurs plasmas froids
  •  Un réacteur d'un volume de 7m³ (Ø=1,850m, L=2m), équipé :
    - d'un dispositif enrouleur/dérouleur permettant de traiter au défilé des bandes polymères et métalliques d'une largeur de 1,2m - d'un plateau tournant polarisable

  •  Un système performant de pompage comprenant :
    - une pompe primaire
    - 3 roots
    - une pompe à diffusion avec piège cryogénique

  •  4 types de générateurs plasmas actuels :
    - 4 générateurs micro-ondes avec plasma différé
    - générateur plasma Basse Fréquence
    - générateur DECRD
    - générateur plasma ECR
PLate forme plasma froid
  • L'installation permet la mise en service de nouveaux types de générateurs

  •  5 lignes de gaz, régulées par débitmétrie massique, pour la génération de plasmas et la réalisation des dépôts (Ar, H2, N2, 02, He, HDMSO...)

  •  La technique XPS (X-Ray Photoelectron Spectroscopie) : Analyse chimique de l’extrême surface
    L’épaisseur maximale analysée est de 10 nm ce qui permet de s’affranchir des problématiques d’interface et de substrat.
    Cette technique donne des informations sur la composition élémentaire de la surface et sur les liaisons atomiques des éléments présents (oxyde…)
    Cette technique permet de détecter tous les éléments sauf H et He.
    La réalisation de profil en épaisseur (analyse destructive) permet de suivre les variations de concentration et avoir accès aux interfaces.

  • Un système de gestion et de pilotage automatisé permettant de réaliser des cycles complets de traitement avec la traçabilité de tous les paramètres

  • La possibilité de recevoir tous les appareils d'analyses et de caractérisation du plasma : spectromètre optique UV et visible, spectromètre de masse, sonde électrostatique de Langmuir, mesure de la vitesse des dépôts in situ,...

  •  Une enceinte permettant de traiter des pièces d'un diamètre maximum de 600 mm, d'une hauteur maximale de 300 mm et d'un poids de 150 kg

  •  Les différents procédés développés au CRITT MDTS sont l'évaporation réactive, la pulvérisation cathodique et le dépôt ionique
Escalab 250
Renseignements

Responsable : Vincent BLAIN

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Tél. 33 (0) 3.24.37.89.89 / Fax. 33 (0) 3.24.37.62.22

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